वे उच्चतर औसत डिस्चार्ज वोल्टेज प्रदान करते हैं। ये उन्नत बैटरियां पारंपरिक बैटरियों की तुलना में डिस्चार्ज के दौरान अधिक ऊंचा और लगातार वोल्टेज प्रदान करती हैं। यह उन अनुप्रयोगों के लिए फायदेमंद है जहां उच्च वोल्टेज सीमा की आवश्यकता होती है, जैसे कि कुछ औद्योगिक स्वचालन उपकरण में। यह सुनिश्चित करता है कि मशीनरी अपनी इष्टतम वोल्टेज सीमा के भीतर काम करती है, जिससे प्रदर्शन और विश्वसनीयता बढ़ती है।
इन्हें माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक्स के लिए गीली रासायनिक नक़्क़ाशी प्रक्रिया से निर्मित किया गया है। गीली रासायनिक नक़्क़ाशी सब्सट्रेट से अवांछित सामग्री को चुनिंदा रूप से भंग करने के लिए विशिष्ट रसायनों का उपयोग करती है, जिससे सूक्ष्म पैमाने पर सटीक पैटर्न और संरचनाएं बनती हैं। माइक्रोचिप्स के उत्पादन में, इसका उपयोग सर्किटरी को परिभाषित करने और खाइयां और वाया बनाने के लिए किया जाता है। वांछित नक़्क़ाशी दर और चयनात्मकता प्राप्त करने के लिए रसायनों और नक़्क़ाशी स्थितियों की पसंद को सावधानीपूर्वक नियंत्रित किया जा सकता है। उदाहरण के लिए, मेमोरी चिप्स के निर्माण में, छोटी मेमोरी कोशिकाओं और इंटरकनेक्ट्स को बनाने के लिए गीली रासायनिक नक़्क़ाशी महत्वपूर्ण है। यह सेमीकंडक्टर उद्योग में एक मौलिक प्रक्रिया है जो माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक के निरंतर लघुकरण और सुधार को सक्षम बनाती है।
यह औद्योगिक स्वचालन के लिए पावर इलेक्ट्रॉनिक्स में नवाचार का एक गहना है। यह प्रतिष्ठान प्रोग्राम योग्य बिजली आपूर्ति का निर्माण करता है जिसे स्वचालित विनिर्माण प्रक्रियाओं की विशिष्ट आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए अनुकूलित किया जा सकता है। विनिर्माण प्रक्रिया लचीलेपन और नियंत्रण का एक मॉडल है। विभिन्न मशीनों और उत्पादन चरणों की आवश्यकताओं के आधार पर, बिजली की आपूर्ति को वास्तविक समय में वोल्टेज, करंट और आवृत्ति को समायोजित करने के लिए प्रोग्राम किया जा सकता है। सुविधा में एक औद्योगिक स्वचालन प्रयोगशाला है जहां बिजली आपूर्ति को उनके प्रदर्शन का परीक्षण करने के लिए औद्योगिक रोबोट और सीएनसी मशीनों के साथ एकीकृत किया जाता है। इससे कारखानों में उत्पादन क्षमता और गुणवत्ता को अनुकूलित करने में मदद मिलती है।
| वोल्टेज | 12V/24V |
| क्षमता | 100/200Ah |
| चक्र जीवन | >3000 चक्र |
| चार्ज की दक्षता | 100% @0.5C |
| निर्वहन की दक्षता | 96~99% @1C |
| चार्ज वोल्टेज | 14.6±0.2V |
| वर्तमान शुल्क | 60A |
| आईपी वर्ग | आईपी65 |


























अक्सर पूछे जाने वाले प्रश्न
प्रश्न: माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक्स के लिए गीली रासायनिक नक़्क़ाशी प्रक्रिया कैसे काम करती है?
ए: गीली रासायनिक नक़्क़ाशी प्रक्रिया माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक में मौलिक है। यह एक सब्सट्रेट से अवांछित सामग्री को चुनिंदा रूप से भंग करने के लिए विशिष्ट रसायनों का उपयोग करता है, जिन्हें एचेंट्स के रूप में जाना जाता है। सब्सट्रेट, जो एक सिलिकॉन वेफर हो सकता है, को एचेंट घोल में डुबोया जाता है। नक़्क़ाशी की पसंद नक़्क़ाशी की जाने वाली सामग्री पर निर्भर करती है। उदाहरण के लिए, हाइड्रोफ्लोरोइक एसिड का उपयोग अक्सर सिलिकॉन डाइऑक्साइड को खोदने के लिए किया जाता है। इचेंट की सांद्रता, तापमान और नक़्क़ाशी के समय को सावधानीपूर्वक नियंत्रित करके, हम सूक्ष्म पैमाने पर सटीक पैटर्न और संरचनाएं बना सकते हैं। माइक्रोचिप्स के उत्पादन में, इसका उपयोग सर्किटरी को परिभाषित करने और खाइयां और वाया बनाने के लिए किया जाता है। वांछित नक़्क़ाशी दर और चयनात्मकता सुनिश्चित करने के लिए नक़्क़ाशी प्रक्रिया की सावधानीपूर्वक निगरानी की जाती है। उदाहरण के लिए, मेमोरी चिप्स के निर्माण में, छोटी मेमोरी कोशिकाओं और इंटरकनेक्ट्स को बनाने के लिए गीली रासायनिक नक़्क़ाशी महत्वपूर्ण है। यह एक महत्वपूर्ण प्रक्रिया है जो माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक्स के निरंतर लघुकरण और सुधार को सक्षम बनाती है।
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